【奧坤鑫 OKSUN】等離子清洗原理;
給氣態(tài)物質更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。當到達等離子狀態(tài)時，氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結合，形成原來的氣體分子。
與濕法清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。
從目前各類清洗方法來看，等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗方式。等離子清洗一般是利用激光、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發(fā)成等離子狀態(tài)。
【等離子體】在等離子清洗應用中，主要是利用低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機氣體（Ar2、N2、H2、O2等）在高頻低壓下被激發(fā)，產生含有離子、激發(fā)態(tài)分子，自由基等多種活性粒子。
一般在等離子清洗中，可把活化氣體分為兩類，一類為惰性氣體的等離子體（如Ar2、N2等）；另一類為反應性氣體的等離子體（如O2、H2等）。
這些活性粒子能與表面材料發(fā)生反應，其反應過程如下：電離——氣體分子——激發(fā)——激發(fā)態(tài)分子——清洗——活化表面等離子產生的原理如下從上圖可以看出，給一組電極施以射頻電壓（頻率約為幾十兆赫茲），電極之間形成高頻交變電場，區(qū)域內氣體在交變電場的激蕩下，產生等離子體。
