【等離子Plasma】選擇適宜的放電方式可獲得不同性質(zhì)和應(yīng)用特點(diǎn)的等離子體,通常,熱等離子體是氣體在大氣壓下電暈放電產(chǎn)生,冷等離子體由低壓氣體輝光放電形成。
熱離子體裝置是利用帶電體尖端(如刀狀或針狀尖端和狹縫式電極)造成不均勻電場,稱電暈放電,使用電壓和頻率、電極間距、處理溫度和時(shí)間對電暈處理效果都有影響、電壓升高、電源頻率增大,則處理強(qiáng)度大,處理效果好、但電源頻率過高或電極間隙太寬,會(huì)引起電極間過多的離子碰撞,造成不必要的能量損耗;而電極間距太小,會(huì)有感應(yīng)損失,也有能量損耗、處理溫度較高時(shí),表面特性的變化較快、處理時(shí)間延長,極性基團(tuán)會(huì)增多;但時(shí)間過長,表面則可能產(chǎn)生分解物,形成新的弱界面層。【真空等離子設(shè)備】
冷等離子體裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場,用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來愈長,受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這時(shí)會(huì)發(fā)出輝光,故稱為輝光放電處理、輝光放電時(shí)的氣壓大小對材料處理效果有很大影響,另外與放電功率,氣體成分及流動(dòng)速度、材料類型等因素有關(guān)。
