等離子清洗機選用氣體當做清洗介質，合理地防止了因液體清洗介質對被清洗物產生的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的外表，在短期內的清洗就能夠 使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。等離子清洗器除了具備超清洗作用外，在特定條件下還可依據需要更改一些材料外表的特性，等離子體作用于材料外表，使外表分子的化學鍵發生重組，產生新的外表特性。對一些有獨特用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不僅增強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。
等離子清洗機的運用，始于20世紀初，隨之高科技產業的迅速發展，其運用越發廣，現階段已在諸多高科技領域中，處于關鍵技術的地位，等離子清洗技術對產業經濟和人類文明影響巨大，首推電子資訊工業，尤其是半導體業與光電工業。
等離子清洗機已運用于各種電子元件的制造，能夠 確信，沒有等離子清洗機以及清洗技術，就沒有今日這么發達的電子、資訊和通訊產業。此外，等離子清洗機以及清洗技術也運用在光學工業、機械與航天工業、高分子工業、污染防治工業和量測工業上，而且是產品提升的關鍵技術，比如說光學元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術、人工關節、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術的進步，才能開發完成。
