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不同等離子氣體對引線框架清洗的效果

1. 氬氣等離子清洗

• 氬氣等離子清洗主要通過物理濺射作用去除表面污染物，對表面損傷較小。

• 適用于對表面粗糙度和完整性要求較高的引線框架。

• 清洗后表面清潔度較高，但可能殘留一些難以通過物理方法去除的污染物。

2. 氧氣等離子清洗

• 氧氣等離子清洗通過化學反應去除有機物污染，清洗效果徹底。

• 適用于有機物污染較重的引線框架。

• 清洗后表面可能產(chǎn)生一定的氧化層，但可以通過后續(xù)處理去除。

3. 氮氣等離子清洗

• 氮氣等離子清洗既能去除表面油脂和塵埃，又能保持表面的完整性。

• 適用于對表面要求較高的引線框架。

• 清洗后表面清潔度較高，且具有一定的活化作用。

4. 氫氣等離子清洗

• 氫氣等離子清洗通過還原反應去除氧化物污染，清洗效果顯著。

• 適用于氧化物污染較重的引線框架。

• 清洗后表面活化作用較強，但需要注意氫氣的安全性。