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VCP系列 晶圓級等離子清洗系統(tǒng)
應用:濕制程后表面有機殘留去除、晶圓表面較小particle去除、晶圓表面較大particle去除及輔助去除、除膠后碳化物及其他有機物去除、晶圓級封裝前表面清洗、晶圓級封裝前表面活化處理、晶圓表面微鈍化處理等。
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編號 內容 規(guī)格參數(shù)
1 整機結構 帶load port系統(tǒng)分為前端設備操作單元、前端EFEM單元及等離子處理單元,前端EFEM系統(tǒng)與等離子體處理單元分體式設計
2 等離子體源 射頻等離子體源或雙頻等離子體源
3 反應腔室 標準設計為雙反應腔室,可根據(jù)需求定制單反應腔室和多反應腔室結構
4 機械傳片 單臂或雙臂高精度機械手
5 Wafer升降 機械式Wafer pin升降結構,Wafer pin采用特定工藝處理
6 真空泵 干式真空泵,根據(jù)安裝位置及工藝不同,選擇100-300m3/h規(guī)格。如工藝需求,可增加分子泵
7 工藝壓力控制 自動調壓蝶閥或固定旁通結構
8 真空檢測 管道真空計、反應腔室全量程真空計、工藝真空計
9 工藝氣體種類 標準配置Ar、N2、O2,可增加其他工藝氣體
10 氣體流量控制 質量流量控制器(MFC)
設備主要應用:濕制程后表面有機殘留去除、晶圓表面較小particle去除、晶圓表面較大particle去除及輔助去除、除膠后碳化物及其他有機物去除、晶圓級封裝前表面清洗、晶圓級封裝前表面活化處理、晶圓表面微鈍化處理等。
設備主要特點:可兼容多尺寸晶圓、可實現(xiàn)多反應腔室定制、獨特的CCP等離子體源設計、高潔凈反應腔室,整機空間環(huán)境particle控制、可選擇射頻等離子發(fā)生器或雙頻等離子發(fā)生器、等離子體密度高、均勻性好、可升級超潔凈反應腔室系統(tǒng)。
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